HSINCHU, 28. November 2023 /PRNewswire/ — Spirox Corporation (TWSE: 3055) und seine Tochtergesellschaft Southport Corporation starten das branchenweit erste JadeSiC-NK zerstörungsfreie Defektinspektionssystem. JadeSiC-NK verwendet hochmoderne nichtlineare optische Technologie für das Scannen ganzer Siliziumkarbid-(SiC)-Wafer, um sogenannte Killer-Defekte zu identifizieren. Es ersetzt die derzeitige kostenintensive, zerstörerische KOH-Ätzmethode (Kaliumhydroxid), was zu höheren Produktionsausbeuten und Prozessverbesserungen führt. Basierend auf der Notwendigkeit, im KOH-Prozess zwei Substrate für jeden SiC-Block zu ätzen, kann JadeSiC-NK bei einem Substrat-Hersteller mit 100 Kristallwachsofen etwa 7,68 Millionen US-Dollar an jährlichen Kosten durch Ätzverluste einsparen.
Spirox and Southport Launch Industry-first Non-Destructive SiC Defect Inspection System, Targeting the Compound Semiconductor Market
Die Qualität der Substratmaterialien bestimmt die Zuverlässigkeit und Leistung von SiC-Chips. Allerdings können die Anzahl der Defekte und die Verteilung des Substratkristalls nur durch stichprobenartige Inspektion mit mathematischer Interpolation bei Verwendung der zerstörerischen KOH-Ätzmethode überprüft werden Wenn Hersteller von SiC-Substraten eine zerstörungsfreie Prüfung von Materialien im Herstellungsprozess umsetzen können, wird dies nicht nur den Verbrauch schädlicher chemischer Lösungen im Zusammenhang mit der KOH-Ätzung reduzieren, sondern auch die frühzeitige Erkennung von Defekten ermöglichen.
Der Geschäftsführer von Southport, Jay Wang, äußerte sich dazu wie folgt: „Traditionelle optische Technologien können nur nicht-kristalline Defekte auf der Oberfläche erkennen. JadeSiC-NK ermöglicht eine flächenweite Oberflächenprüfung bis zu einer bestimmten Tiefe, um effizient schädliche Defekte (wie BPD, TSD, Microröhrchen und Stapelfehler) zu erkennen. Im Vergleich zur KOH-Ätzmethode kann JadeSiC-NK signifikante Zeit- und Substratkosten bei der Inspektion einsparen. Darüber hinaus ermöglicht JadeSiC-NK eine 100 %ige Wafer-Inspektion für denselben Block, was eine detaillierte Blockanalyse und eine Chargenrückverfolgbarkeitsanalyse ermöglicht, die Kunden bei der Prozess- und Ertragsoptimierung unterstützen wird.
Dr. Hao-Chung Kuo, Lehrstuhlinhaber des Fachbereichs Optoelektronik an der Taiwan NYCU, sagt: „Durch den Einsatz nicht linearer optischer Technologie wird erwartet, dass JadeSiC-NK die aktuellen technischen Engpässe der Branche bei der Prozessverbesserung überwinden wird. Man hofft, dass JadeSiC-NK Branchenstandards für die Inspektion von SiC-Substraten etabliert und zur führenden Marke in der Branche für nicht lineare optische Technologie wird, um kontinuierliche Innovationen und Durchbrüche in der Anwendungstechnik voranzutreiben”.
Der CEO von Spirox, Paul Yang, sagt: „Spirox hat kontinuierlich in die Entwicklung von Lösungen investiert, um die Kundenbedürfnisse zu erfüllen. Mit Southport erweitert Spirox unser Produktportfolio von Halbleiterprüfgeräten auf optische Inspektion. Der anfängliche Schwerpunkt liegt auf der vielversprechenden Defektinspektion von Verbindungshalbleitermaterialien. Neben der Anwendung nicht linearer optischer Technologie im neu eingeführten JadeSiC-NK plant Spirox, die Kommerzialisierung fortschrittlicher optischer Inspektionstechnologien in Bereichen wie MicroLED, Metamaterial, Siliziumphotonik usw. in Zukunft zu beschleunigen”.
Ken Tai, Vorsitzender derTaiwan Photonics Industry & Technology Development Association, sagt: „Es ist eine große Freude zu sehen, wie zwei taiwanesische Unternehmen durch eine für beide Seiten vorteilhafte Zusammenarbeit Synergien schaffen und einen enormen Mehrwert für die Branche schaffen. JadeSiC-NK stellt einen bahnbrechenden technologischen Durchbruch dar. Es handelt sich nicht nur um ein revolutionäres Produkt für die florierende globale Verbindungshalbleiterindustrie, das in der Lage ist, die Kosten erheblich zu senken und die Produktionskapazität zu steigern, sondern es zeigt auch Taiwans technologische Führungsposition mit Spirox und Southport als Vertreter”.